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    第五代深沟槽工艺超级结 MOSFET

    第五代深沟槽工艺超级结 MOSFET

    Toshiba 的 600 V 和 650 V DTMOS V 工艺实现了紧凑的 MOSFET(Fifth-Generation Deep Trench Process Super Junction MOSFETs),可在电源开关应用中简化设计导入并降低 EMI 噪声

    发布时间:2018-06-14

    Toshiba 推出用于高能效功率 MOSFET 的下一代超级结 (SJ) 深沟槽半导体技术。与以前的 DTMOS IV MOSFET 相比,基于新的 DTMOS V 工艺的器件具有更低的 EMI 噪声,并降低了导通电阻 (RDS(ON))。
    与以前的 DTMOS IV 半导体技术一样,DTMOS V 技术基于单一外延工艺,涉及“深沟槽蚀刻”,后跟 P 型外延生长。与更传统的平面过程相比,深沟槽填充过程导致单元间距变窄和 RDS(ON) 降低。与使用多外延生长工艺的传统超级结 MOSFET 相比,Toshiba 的深沟槽工艺可以提高 RDS(ON) 的热系数。
    与 TK12P60W DTMOS IV MOSFET 技术提供的最低 RDS(ON) 相比,Toshiba 能够使用 DTMOS V 技术将 DPAK TK290P60Y 的 RDS(ON) 降低 17%。该公司还进一步优化了开关性能与 EMI 噪声之间的平衡。
    DTMOS V MOSFET 简化了设计并提高了功率转换应用的性能,包括开关电源、功率因数校正(PFC)设计、LED 照明和其他 AC/DC 应用。第一款基于第五代工艺的 MOSFET 提供 600 V 和 650 V 额定值,并采用 DPAK (TO-252) 和 TO-220SIS(智能隔离)封装。最大导通电阻额定值范围仅为 0.29 Ω 到 0.56 Ω。

    第五代深沟槽工艺超级结 MOSFET特性

    • 与以前的 DTMOS IV 技术相比,RDS(ON)(漏源导通电阻)降低了 17%

    • 0.29 Ω 至 0.56 Ω 导通电阻产品系列

    • 不同封装选择:将采用两种封装(DPAK,TO-220SIS)

    第五代深沟槽工艺超级结 MOSFET应用

    1. 服务器

    2. 基站或其他设备的开关电源

    3. 光伏逆变器

    MOSFETs
    图片数据手册产品型号产品分类产品描述价格操作
    TK380P60Y,RQMOSFETs-晶体管MOSFET N-CHANNEL 600V 9.7A DPAK¥9.30960在线订购
    TK560P65Y,RQMOSFETs-晶体管MOSFET N-CHANNEL 650V 7A DPAK¥10.81920在线订购
    TK290P60Y,RQMOSFETs-晶体管MOSFET N-CH 600V 11.5A DPAK¥8.45250在线订购
    TK560P60Y,RQMOSFETs-晶体管X35 Pb-F POWER MOSFET TRANSISTOR DPAK(OS) PD=60W F=1MHZ ; Region : VERICAL¥6.31120在线订购
    TK380P65Y,RQMOSFETs-晶体管 连续漏极电流(Id):9.7A¥22.79590在线订购
    TK290P65Y,RQMOSFETs-晶体管TK290P65Y,RQ¥9.89280在线订购
    TK560A60Y,S4XMOSFETs-晶体管MOSFET N-CH 600V 7A TO220SIS¥5.27190在线订购
    TK560A65Y,S4XMOSFETs-晶体管通孔 N 通道 650 V 7A(Tc) 30W TO-220SIS¥14.70820在线订购
    TK380A60Y,S4XMOSFETs-晶体管MOSFET N-CH 600V 9.7A TO220SIS在线订购
    TK290A65Y,S4XMOSFETs-晶体管MOSFET N-CH 650V 11.5A TO220SIS在线订购
    TK290A60Y,S4XMOSFETs-晶体管MOSFET N-CH 600V 11.5A TO220SIS¥7.32550在线订购

    应用案例

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